石墨烯它一種半導體資料,，它的功能是十分優(yōu)異的,，比硅的特性要好的很多,，電子在石墨烯中的運轉(zhuǎn)速度能夠達到光速的1/300,，比在其他介質(zhì)中的運轉(zhuǎn)速度不能低反而要高出十分多，并且產(chǎn)出的熱量并不是很多,。

這一點毋庸置疑便是石墨烯的發(fā)展前景是十分好的,，但這些功能都是根據(jù)其微觀的納米標準,，如果直接用將會是十分大的困難,。所以面對這樣的困難,，把納米標準的石墨烯制備成宏觀的薄膜資料并且保持其納米效應。采用化學還原氧化石墨烯并采用真空抽濾的辦法制備石墨烯薄膜,，結果顯示用該辦法制備的20微米薄膜,，合適大規(guī)模工業(yè)制備。

與此同時,，針對石墨烯薄膜與二氧化硅界面接觸熱阻大的困擾,，怎么處理這中困擾呢便是采用在石墨烯薄膜與二氧化硅界面引入功能化分子的辦法。這種辦法能夠把困擾的難度降到最低,。