真空爐內(nèi)的溫度分布

  石墨加熱元件在加熱室兩側的布置特別適用于高真空爐。在高真空環(huán)境下,，兩側加熱元件產(chǎn)生的熱輻射區(qū)域可以均勻加熱工件,。當爐溫為400-1300℃時，加熱區(qū)各點溫差可達5 K..20世紀60年代以前,，溫度控制是熱處理技術的主要問題之一,。后來因為電子溫控技術的出現(xiàn)，這個問題得到了解決,。目前,，從溫度分布的角度來看，熱區(qū)溫度分布的準確性是一個重要的問題,。我們幾乎總是優(yōu)先考慮可以確保結構中溫度均勻的熱區(qū),。由于某種原因，隨著保溫時間的延長,，熱區(qū)暫時的溫度不均勻會消失,。相反，溫度較高或較低的熱區(qū)將在整個熱處理過程中產(chǎn)生有害影響,。我們將介紹在這方面有效的真空爐結構,，其溫度梯度低于0.01K/cm。真空爐除了溫度均勻外,，還有其他優(yōu)點,。能耗少，完全避免了有毒材料的使用,，加熱和材料放氣產(chǎn)生的煙塵對環(huán)境的污染,，完美解決了材料表面氧化或扭曲的問題。由于這些優(yōu)點,，真空爐已成為當前熱處理工藝中不可缺少的條件,。真空中的傳熱從傳熱的角度來看,，真空起著雙重作用。